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前言：逐渐还击了？哈工大自主研发技术性摆脱光刻机垄断性，日企、荷企始料不及

大家都知道，中国最近几年在技术领域的发展水平还是十分迅速的，在华为、阿里巴巴等多个科技企业的不断领导下，中国在5G、云计算技术、人工智能技术AI技术性等许多前沿技术领域都获得了领先的优点；伴随着中国科技企业的不断兴起，美国也感受到了一定危胁与挑战；为了能维护自己高新科技领导地位，美国甘愿数次改动处理芯片标准，希望在半导体芯片领域对咱们受制于人发展趋势！

要记住，中国尽管是世界上最大的生产加工产业基地，可是半导体芯片领域的高速发展却一直都是国内科技企业持续发展的薄弱点，这些年，中国科技企业发展趋势所需要的处理芯片也大部分都是取决于从美国品牌而成，在大美改动处理芯片标准之后，日资企业高通芯片、intel等公司就陆续作出了结供着确定，这也使得国内科技企业的高速发展得到了很大影响，而全世界半导体市场也由此迎来大换血。

当中国科技企业在半导体芯片领域的高速发展薄弱点曝露之后，不计其数的中国科技企业也都开始提升，并迅速加速在处理芯片领域的高速发展；为解决光刻机等受制于人的瓶颈问题，我们国家的华为公司、清华、哈工大，及其中国科学院等公司个组织都进行了相关业务的开发，通过这些年的勤奋，如今都终于是逐渐还击了，哈工大自主研发技术性摆脱光刻机垄断性，日企、荷企始料不及！

是我国顶尖的名校之一，哈工大也曾经遭到断贷，为解决国内科技企业被受制于人的一大难题，哈工大也一直在对EDA手机软件，及其光刻机等关键技术开展产品研发，近日，哈工大传出喜讯：哈工大自主研发高速超精密干涉仪早已获得成功，并且可以可用在350nm-28nm的光刻机上，这也就意味着大家在光刻机的关键光源技术领域获得了提升，并打破日本、西班牙光刻机公司的垄断性！

光刻机做为生产制造半导体芯片的重要机器设备，它产品研发也是很重要的；这些年，全世界的光刻机销售市场基本都被西班牙ASML及其日本的佳能和尼康所垄断性；在中国提出要进到光刻机领域发展趋势时，法国ASML企业曾称：即便是公布工程图纸，你们都造不出来了；但令日企、荷企出乎意料的是，那么快中国科技企业就打破了光刻机的关键技术；除开灯源系统软件之外，中国在目镜和双工件台领域也获得了提升，而这三大技术性乃是光刻机的三大核心技术性，现在我们都已经实现提升！

总体来看，中国最近几年一直在加速半导体芯片领域发展和合理布局；为了能打造归属于我们自己国内半导体芯片全产业链，中国不但有华为公司、哈工大、清华等多个的企业和平台在加速关键半导体材料技术的研究，并且中国仍在加强对半导体材料人才培养，随着我国科技企业对半导体材料的开发越来越注重，中国销售市场也在吸引住许多处理芯片有关的顶级人才添加，我们坚信要不会太久，中国科技企业就可以完成“去装饰”发展趋势，不清楚对于此事你是如何有什么看法呢？